Gasförmige molekulare Vorstufen werden an einem geheizten Substrat zersetzt und dort eine Beschichtung ausbilden. Um Oberflächenreaktionen zu bevorzugen werden die Beschichtiungen meist unter reduziertem Druck (Vakuum) durchgeführt.
Details
Technologie
Substrate
Beschichtungen
Eigenschaften
- Temperaturbereich400 - 1.000 °CSubstrattemeratur
- Dimensionen3 x 3 cm2maximale Substratgröße
- Schichtdicke20 nm - 1 µm
- Druckbereich1 - 10-3 PaVakuum
