Chemische Gasphasenabscheidung

Gasförmige molekulare Vorstufen werden an einem geheizten Substrat zersetzt und dort eine Beschichtung ausbilden. Um Oberflächenreaktionen zu bevorzugen werden die Beschichtiungen meist unter reduziertem Druck (Vakuum) durchgeführt.

Details

Eigenschaften

Homogenität
Geschwindigkeit
Skalierbarkeit
Kosten
  • Temperaturbereich
    400 - 1.000 °C
    Substrattemeratur
  • Dimensionen
    3 x 3 cm2
    maximale Substratgröße
  • Schichtdicke
    20 nm - 1 µm
  • Druckbereich
    1 - 10-3 Pa
    Vakuum